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XYZ三轴晶圆检测系统
 

 

BasicModel

WN600TA-X-300

WN600TA-Y-300

行程

300mm

300mm

 

定位精度

补偿后

±0.5µm

±0.5µm

 

未补偿

±2.0µm

±2.0µm

重复定位精度

±0.4µm

±0.4µm

直线度

±0.38µm

±0.38µm

平面度

±0.75µm

±0.75µm

Pitch(俯仰)

±3arcsec

±3arcsec

Yaw(偏摆)

±3arcsec

±3arcsec

最大速度

0.7m/s

0.7m/s

最大加速度

0.8G(无负载)

0.8G(无负载)

负载能力

中心

40.0kg

80.0kg

 

侧边

20.0kg

30.0kg

供气压力

0.45~0.55mpa

0.45~0.55mpa

驱动

直线电机

直线电机

导轨

气浮导轨

气浮导轨

动子质量(无负载)

10kg

14.3kg

自重

26kg

68.2kg

材料

铝-大理石

铝-大理石

 

BasicModel

WN600TA-Z-19

Pin杆行程

19mm

吸盘直径

12寸

定位精度

±5µm

重复定位精度

±3µm

材料

气浮轴承移动台凭具有无摩擦、高精度、洁净无污染的特性,广泛应用于对运动控制要求极高的领域,尤其在半导体、精密制造、光学检测等高科技产业中发挥关键作用。
1.采用先进的气体静压轴承技术,使运动部件悬浮于气体薄膜之上,彻底消除固体摩擦带来的磨损、发热及振动问题,实现超平稳、无卡顿的运动,极大提升运动精度与稳定性,延长设备使用寿命。
2.高刚度与承载能力:气浮系统采用磁预载,赋予运动台出色的刚度,能够在承受较大负载的同时,保持极小的变形量。
3.配备300mm直径Wafer Chuck,满足12寸Wafer装载,配备顶Pin机构,可实现与机械手的联动装载动作。
4.导轨采用优质大理石,提供高刚度、低热膨胀系数,保证整体平台可靠性。

​气浮轴承移动台技术优势总结

​​特性​​

​气浮轴承移动台

​​摩擦类型​​

空气膜悬浮(零摩擦)

​​精度​​

nm级(最高达0.1nm)

​​洁净度​​

无油无尘(Class 1标准)

​​适用速度​​

高速(可达2m/s)

​​维护成本​​

仅需洁净压缩空气

气浮轴承移动台使用场景:
一、半导体制造与检测​​
1.晶圆加工与检测​​
光刻机对准:在EUV光刻机中实现纳米级(<5nm)定位,避免机械振动影响图案精度。
​缺陷检测:配合AOI(自动光学检测)系统扫描晶圆表面,检测28nm以下制程的微观缺陷。
晶圆传输:在Class 1洁净环境中搬运300mm/450mm晶圆,无颗粒污染风险。
2.先进封装​​
Chiplet异构集成:支持2.5D/3D封装中的多芯片高精度对准(±1μm)。
TSV硅通孔检测:通过气浮平台稳定移动,实现垂直通孔的微观成像。
​​二、精密光学与光电领域​​
1.光学元件加工​​
自由曲面抛光:用于航天级透镜、AR/VR光学模组的超光滑表面加工(粗糙度<0.1nm)。
离轴抛物面镜检测:通过多自由度气浮台调整光学路径,消除装夹应力。
2.激光系统​​
高能激光校准:在惯性约束核聚变(ICF)装置中精准定位靶材。
光刻机物镜调校:调节Zeiss/ASML光学模块的波像差至λ/50(λ=632nm)。
三、生物医疗与纳米技术​​
1.生命科学仪器​​
​冷冻电镜(Cryo-EM:支撑样品台的超低温(-180℃)无振动环境,分辨率达0.3Å。
​基因测序仪:高通量DNA测序时保持载玻片纳米级平稳移动。
2.纳米操纵与计量​​
原子力显微镜(AFM:实现探针的亚埃级(0.1Å)定位扫描。
量子点组装:在量子计算机研发中精确排布半导体量子点阵列。

 

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